臺積電計(jì)劃在 2025 年底前推出其 3D 結(jié)構(gòu)小芯片技術(shù)的汽車級版本。
InFO-oS 扇出技術(shù)將支持基板上的多個(gè) SoC 器件,第一個(gè)汽車小芯片工藝設(shè)計(jì)套件 (PDK) 將于今年年底推出,完整的 PDK 將于 2026 年初推出。
CoWoS-R 工藝將通過基板的中介層支持具有高性能 HBM 存儲器的 SOC。初始 PDK 很快就會推出,完整的 PDK 也將于 2026 年初推出。臺積電昨天在其歐洲技術(shù)研討會上表示,這些工藝將于 25 年第 4 季度通過 AEC Q100 Grade2 認(rèn)證。
CoWoS 平臺包括最成熟的基于硅中介層的 CoWoS-S 和基于有機(jī)中介層的 CoWoS-L 和 R。汽車工藝建立在超過 150 個(gè) CoWoS 客戶產(chǎn)品流片的經(jīng)驗(yàn)之上,截至本年底,已為超過 25 個(gè)客戶提供服務(wù)。
汽車也是 ESMC 合資工廠的關(guān)鍵,該工廠將于今年晚些時(shí)候開始建設(shè),并于 2027 年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。ESMC 是博世、英飛凌、恩智浦和臺積電的戰(zhàn)略合作和承諾,旨在為歐洲客戶提供 N28 和 N16 工藝技術(shù)
性能優(yōu)化的3nm有望量產(chǎn)
作為臺積電春季技術(shù)研討會系列第二站的一部分,該公司提供了有關(guān)其 3 納米級工藝當(dāng)前和未來狀態(tài)的最新信息。在當(dāng)前一代 N3E 工藝的基礎(chǔ)上,該工藝技術(shù)的光學(xué)微縮技術(shù) N3P 現(xiàn)已有望在 2024 年下半年進(jìn)入量產(chǎn)。得益于這種微縮,N3P 預(yù)計(jì)將提供更高的性能與 N3E 相比,效率更高,晶體管密度更高。
隨著 N3E 已經(jīng)投入量產(chǎn),臺積電報(bào)告稱,他們在第二代 3nm 級工藝說明上看到了“巨大”的良率。據(jù)該公司稱,N3E 的 D0 缺陷密度與 N5 相當(dāng),與舊節(jié)點(diǎn)在其各自生命周期中同一點(diǎn)的缺陷率相匹配�?紤]到開發(fā)最后一代、更精細(xì)的 FinFET 技術(shù)會帶來額外的復(fù)雜性,這絕非易事。因此,對于臺積電的尖端客戶(例如剛剛推出 M4 SoC 的蘋果公司)來說,這使他們能夠相對較快地獲得改進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)的好處。
臺積電一位高管在活動(dòng)中表示:“N3E 按計(jì)劃于去年第四季度開始量產(chǎn)。” “我們已經(jīng)看到客戶產(chǎn)品的出色產(chǎn)量表現(xiàn),因此他們確實(shí)按計(jì)劃進(jìn)入了市場。”
臺積電的N3E節(jié)點(diǎn)是N3B的寬松版本,消除了一些EUV層并完全避免了EUV雙圖案的使用。這使得生產(chǎn)成本更便宜,并且在某些情況下它擴(kuò)大了工藝窗口和產(chǎn)量,盡管它是以一些晶體管密度為代價(jià)的。
同時(shí),展望臺積電的未來,N3P 已完成資格認(rèn)證,其良率表現(xiàn)接近 N3E。作為光學(xué)微縮技術(shù),N3P 節(jié)點(diǎn)將使處理器開發(fā)人員能夠在相同漏電情況下將性能提高 4%,或者在相同時(shí)鐘頻率下將功耗降低 9%(之前范圍在 4% 至 10% 之間,具體取決于設(shè)計(jì)) )。新節(jié)點(diǎn)還將“混合”芯片設(shè)計(jì)的晶體管密度提高 4%,臺積電將其定義為由 50% 邏輯、30% SRAM 和 20% 模擬電路組成的處理器。
雖然看起來最初的 N3(又名 N3B)的生命周期相對平靜,因?yàn)樘O果是其唯一的主要客戶,但 N3E 將被臺積電的廣泛客戶采用,其中包括許多業(yè)界最大的芯片設(shè)計(jì)商。
由于 N3P 是 N3E 的光學(xué)微縮版,因此它在 IP 模塊、工藝規(guī)則、電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化 (EDA) 工具和設(shè)計(jì)方法方面與其前身兼容。因此,臺積電預(yù)計(jì)大部分新流片將使用 N3P,而不是 N3E 或 N3。這是合乎邏輯的,因?yàn)?N3P 以比 N3 更低的成本提供比 N3E 更高的性能效率。
N3P 最重要的一點(diǎn)是,它有望在今年下半年投入生產(chǎn),因此預(yù)計(jì)芯片設(shè)計(jì)人員會立即采用它。
“我們還成功交付了 N3P 技術(shù),”臺積電高管表示。“它已經(jīng)通過了認(rèn)證,良率表現(xiàn)接近N3E。[工藝技術(shù)]也已收到產(chǎn)品客戶流片,并將于今年下半年開始生產(chǎn)。由于N3P的[PPA優(yōu)勢],我們預(yù)計(jì)N3 上的大部分流片都流向了 N3P。”









